VeTek Semiconductor è specializzata nella produzione di prodotti di rivestimento in carburo di silicio ultra puri, questi rivestimenti sono progettati per essere applicati a grafite purificata, ceramica e componenti metallici refrattari.
I nostri rivestimenti ad elevata purezza sono destinati principalmente all'uso nei settori dei semiconduttori e dell'elettronica. Fungono da strato protettivo per supporti wafer, suscettori ed elementi riscaldanti, proteggendoli dagli ambienti corrosivi e reattivi incontrati in processi come MOCVD ed EPI. Questi processi sono parte integrante della lavorazione dei wafer e della produzione dei dispositivi. Inoltre, i nostri rivestimenti sono particolarmente adatti per applicazioni in forni a vuoto e riscaldamento di campioni, dove si incontrano ambienti ad alto vuoto, reattivi e con ossigeno.
Noi di VeTek Semiconductor offriamo una soluzione completa con le nostre capacità avanzate di officina meccanica. Ciò ci consente di produrre i componenti di base utilizzando grafite, ceramica o metalli refrattari e di applicare internamente i rivestimenti ceramici SiC o TaC. Forniamo anche servizi di rivestimento per le parti fornite dai clienti, garantendo flessibilità per soddisfare le diverse esigenze.
I nostri prodotti di rivestimento in carburo di silicio sono ampiamente utilizzati nell'epitassia Si, epitassia SiC, sistema MOCVD, processo RTP/RTA, processo di incisione, processo di incisione ICP/PSS, processo di vari tipi di LED, inclusi LED blu e verde, LED UV e UV profondo LED ecc., adattato alle apparecchiature LPE, Aixtron, Veeco, Nuflare, TEL, ASM, Annealsys, TSI e così via.
Proprietà fisiche di base del rivestimento SiC CVD | |
Proprietà | Valore tipico |
Struttura cristallina | FCC fase β policristallina, prevalentemente orientata (111). |
Densità | 3,21 g/cm³ |
Durezza | Durezza 2500 Vickers (carico 500 g) |
Granulometria | 2~10μm |
Purezza chimica | 99,99995% |
Capacità termica | 640 J·kg-1·K-1 |
Temperatura di sublimazione | 2700 ℃ |
Resistenza alla flessione | 415 MPa RT a 4 punti |
Modulo di Young | Curvatura 4 punti 430 Gpa, 1300 ℃ |
Conducibilità termica | 300W·m-1·K-1 |
Dilatazione termica (CTE) | 4,5×10-6K-1 |
VeTek Semiconductor è un produttore leader, innovatore e leader di rivestimento CVD SiC e rivestimento TAC in Cina. Per molti anni ci siamo concentrati su vari prodotti di rivestimento CVD SiC come gonna rivestita CVD SiC, anello di rivestimento CVD SiC, supporto di rivestimento CVD SiC, ecc. VeTek Semiconductor supporta servizi di prodotto personalizzati e prezzi di prodotto soddisfacenti e attende con ansia i vostri ulteriori consultazione.
Per saperne di piùInvia richiestaIn qualità di produttore e leader cinese di prodotti a semiconduttori, VeTek Semiconductor si concentra da molti anni su vari tipi di prodotti sucettori come suscettore Epi LED UV, suscettore epitassiale LED UV profondo, suscettore con rivestimento SiC, suscettore MOCVD, ecc. VeTek Semiconductor si impegna a fornire tecnologie avanzate e soluzioni di prodotto per l'industria dei semiconduttori e non vediamo l'ora di diventare il vostro partner in Cina.
Per saperne di piùInvia richiestaIl deflettore di rivestimento CVD SiC di Vetek Semiconductor viene utilizzato principalmente nell'epitassia del Si. Di solito viene utilizzato con cilindri di prolunga in silicone. Combina l'esclusiva temperatura elevata e la stabilità del deflettore di rivestimento CVD SiC, che migliora notevolmente la distribuzione uniforme del flusso d'aria nella produzione di semiconduttori. Crediamo che i nostri prodotti possano offrirti tecnologia avanzata e soluzioni di prodotto di alta qualità.
Per saperne di piùInvia richiestaIl cilindro in grafite CVD SiC di Vetek Semiconductor è fondamentale nelle apparecchiature per semiconduttori, poiché funge da scudo protettivo all'interno dei reattori per salvaguardare i componenti interni in ambienti ad alta temperatura e pressione. Protegge efficacemente dalle sostanze chimiche e dal calore estremo, preservando l'integrità dell'apparecchiatura. Con un'eccezionale resistenza all'usura e alla corrosione, garantisce longevità e stabilità in ambienti difficili. L'utilizzo di queste coperture migliora le prestazioni dei dispositivi a semiconduttore, prolunga la durata della vita e riduce i requisiti di manutenzione e i rischi di danni. Benvenuti a contattarci.
Per saperne di piùInvia richiestaGli ugelli di rivestimento CVD SiC di Vetek Semiconductor sono componenti cruciali utilizzati nel processo di epitassia LPE SiC per depositare materiali in carburo di silicio durante la produzione di semiconduttori. Questi ugelli sono generalmente realizzati in materiale di carburo di silicio resistente alle alte temperature e chimicamente stabile per garantire stabilità in ambienti di lavorazione difficili. Progettati per una deposizione uniforme, svolgono un ruolo chiave nel controllo della qualità e dell'uniformità degli strati epitassiali cresciuti in applicazioni a semiconduttori. Non vediamo l'ora di instaurare una cooperazione a lungo termine con voi.
Per saperne di piùInvia richiestaVetek Semiconductor fornisce la protezione del rivestimento CVD SiC utilizzata per l'epitassia SiC LPE. Il termine "LPE" si riferisce solitamente all'epitassia a bassa pressione (LPE) nella deposizione chimica in fase vapore a bassa pressione (LPCVD). Nella produzione di semiconduttori, LPE è un'importante tecnologia di processo per la crescita di film sottili monocristallini, spesso utilizzati per coltivare strati epitassiali di silicio o altri strati epitassiali di semiconduttori. Non esitate a contattarci per ulteriori domande.
Per saperne di piùInvia richiesta