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Deposizione fisica del vapore

Deposizione fisica del vapore

La deposizione fisica da vapore (PVD) dei semiconduttori Vetek è una tecnologia di processo avanzata ampiamente utilizzata nel trattamento superficiale e nella preparazione di film sottili. La tecnologia PVD utilizza metodi fisici per trasformare direttamente i materiali da solidi o liquidi a gas e formare una pellicola sottile sulla superficie del substrato target. Questa tecnologia presenta i vantaggi di alta precisione, elevata uniformità e forte adesione ed è ampiamente utilizzata in semiconduttori, dispositivi ottici, rivestimenti per utensili e rivestimenti decorativi. Benvenuti a discutere con noi!

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Nanopolvere di fase MAX

Nanopolvere di fase MAX

La nanopolvere di fase Semiconductor MAX di Veteksemi offre eccezionali proprietà termiche ed elettriche, ideali per applicazioni avanzate di elettronica e scienza dei materiali. Con una resistenza all'ossidazione superiore e stabilità alle alte temperature, la nanopolvere di Veteksemi è la soluzione perfetta per tecnologie innovative dei semiconduttori. Benvenuti a contattarci.

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Condensatore MLCC con tecnologia di spruzzatura termica

Condensatore MLCC con tecnologia di spruzzatura termica

La tecnologia di spruzzatura termica di Vetek Semiconductor svolge un ruolo estremamente importante nell'applicazione del rivestimento di crogioli sinterizzati per materiali di alta qualità per condensatori ceramici multistrato (MLCC). Con la continua miniaturizzazione e le elevate prestazioni dei dispositivi elettronici, anche la domanda di condensatori MLCC con tecnologia di spruzzatura termica sta crescendo rapidamente, soprattutto nelle applicazioni di fascia alta. Per soddisfare questa richiesta, i crogioli utilizzati nel processo di sinterizzazione devono avere un'eccellente resistenza alle alte temperature, resistenza alla corrosione e buona conduttività termica, tutte caratteristiche che possono essere ottenute e migliorate mediante la tecnologia di spruzzatura termica. Non vedo l'......

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Braccio robotico per la movimentazione dei wafer

Braccio robotico per la movimentazione dei wafer

La tecnologia di spruzzatura termica di Vetek Semiconductor svolge un ruolo fondamentale nell'applicazione di bracci robotici per la gestione dei wafer, in particolare negli ambienti di produzione di semiconduttori che richiedono elevata precisione ed elevata pulizia. Questa tecnologia migliora significativamente la durata, l'affidabilità e l'efficienza lavorativa dell'attrezzatura rivestendo materiali speciali sulla superficie del braccio robotico per la movimentazione dei wafer. Benvenuti a contattarci.

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Tecnologia di spruzzatura termica dei semiconduttori

Tecnologia di spruzzatura termica dei semiconduttori

La tecnologia di spruzzatura termica dei semiconduttori di Vetek Semiconductor è un processo avanzato che spruzza materiali in uno stato fuso o semi-fuso sulla superficie di un substrato per formare un rivestimento. Questa tecnologia è ampiamente utilizzata nel campo della produzione di semiconduttori, utilizzata principalmente per creare rivestimenti con funzioni specifiche sulla superficie del substrato, come conduttività, isolamento, resistenza alla corrosione e resistenza all'ossidazione. I principali vantaggi della tecnologia di spruzzatura termica includono alta efficienza, spessore del rivestimento controllabile e buona adesione del rivestimento, che la rendono particolarmente importante nel processo di produzione dei semiconduttori che richiede elevata precisione e affidabilità. In......

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