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Cina Rivestimento in carburo di tantalio Produttore, fornitore, fabbrica

VeTek semiconductor è un produttore leader di materiali di rivestimento in carburo di tantalio per l'industria dei semiconduttori. La nostra offerta di prodotti principali comprende parti di rivestimento in carburo di tantalio CVD, parti di rivestimento in TaC sinterizzato per la crescita dei cristalli SiC o il processo di epitassia dei semiconduttori. Superato ISO9001, VeTek Semiconductor ha un buon controllo sulla qualità. VeTek Semiconductor si impegna a diventare innovatore nel settore del rivestimento in carburo di tantalio attraverso la ricerca continua e lo sviluppo di tecnologie iterative.

I prodotti principali sonoAnello deflettore con rivestimento in carburo di tantalio, anello di deviazione rivestito in TaC, parti a mezzaluna rivestite in TaC, disco di rotazione planetario rivestito in carburo di tantalio (Aixtron G10), crogiolo rivestito in TaC; Anelli rivestiti in TaC; Grafite porosa rivestita in TaC; Suscettore in grafite con rivestimento in carburo di tantalio; Anello guida rivestito in TaC; Piastra rivestita in carburo di tantalio TaC; Suscettore wafer rivestito in TaC; Anello di rivestimento TaC; Copertura in grafite con rivestimento TaC; Pezzo rivestito in TaCecc., la purezza è inferiore a 5 ppm e può soddisfare le esigenze del cliente.

La grafite con rivestimento TaC viene creata rivestendo la superficie di un substrato di grafite ad elevata purezza con uno strato sottile di carburo di tantalio mediante un processo proprietario di deposizione chimica in fase vapore (CVD). Il vantaggio è mostrato nell'immagine seguente:

Performance Advantages of Tantalum Carbide Coating

Il rivestimento in carburo di tantalio (TaC) ha attirato l'attenzione grazie al suo elevato punto di fusione fino a 3880°C, all'eccellente resistenza meccanica, durezza e resistenza agli shock termici, che lo rendono un'alternativa interessante ai processi di epitassia composti di semiconduttori con requisiti di temperatura più elevati, come il sistema Aixtron MOCVD e il processo epitassia LPE SiC. Ha anche un'ampia applicazione nel processo di crescita dei cristalli SiC con metodo PVT.

Caratteristiche principali:

Stabilità della temperatura

Purezza ultra elevata

Resistenza a H2, NH3, SiH4,Si

Resistenza allo stock termico

Forte adesione alla grafite

Copertura del rivestimento conforme

Dimensioni fino a 750 mm di diametro(L'unico produttore in Cina raggiunge queste dimensioni)

Applicazioni:

Porta-wafer

Suscettore di riscaldamento induttivo

Elemento riscaldante resistivo

Disco satellitare

Soffione

Anello guida

Ricevitore Epi LED

Ugello di iniezione

Anello di mascheramento

Scudo termico

Rivestimento in carburo di tantalio (TaC) su una sezione trasversale microscopica:

Tantalum carbide (TaC) coating on a microscopic cross-section

Parametro del rivestimento in carburo di tantalio di VeTek Semiconductor:

Proprietà fisiche del rivestimento TaC
Densità	14,3 (g/cm³)
Emissività specifica	0.3
Coefficiente di dilatazione termica	6.310^-6/K
Durezza (HK)	2000 Hong Kong
Resistenza	1×10^-5Ohm*cm
Stabilità termica	<2500 ℃
La dimensione della grafite cambia	-10~-20um
Spessore del rivestimento	Valore tipico ≥20um (35um±10um)

Dati EDX del rivestimento TaC：

TaC coating EDX data

Dati sulla struttura cristallina del rivestimento TaC

Elemento	Percentuale atomica
	Pt. 1	Pt. 2	Pt. 3	Media
CK	52.10	57.41	52.37	53.96
Ta M	47.90	42.59	47.63	46.04

Mandrino con rivestimento TaC Disco planetario con rivestimento TaC Piastra rivestita in TaC Piastra di rotazione del rivestimento TaC Suscettore del rivestimento TaC Copertura con rivestimento CVD TaC Anello di rivestimento CVD TaC Piastra di rivestimento TaC

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Anello rivestito in carburo di tantalio

In qualità di innovatore professionale e leader di prodotti con anelli rivestiti in carburo di tantalio in Cina, l'anello rivestito in carburo di tantalio dei semiconduttori VeTek svolge un ruolo insostituibile nella crescita dei cristalli SiC con la sua eccellente resistenza alle alte temperature, resistenza all'usura ed eccellente conduttività termica. Accolga favorevolmente la vostra ulteriore consultazione.

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Carburo di tantalio poroso

VeTek Semiconductor è un produttore professionale e leader di prodotti in carburo di tantalio poroso in Cina. Il carburo di tantalio poroso viene solitamente prodotto mediante il metodo di deposizione chimica in fase vapore (CVD), garantendo un controllo preciso della dimensione e della distribuzione dei pori ed è uno strumento materiale dedicato agli ambienti estremi ad alta temperatura. Accolga favorevolmente la vostra ulteriore consultazione.

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Anello in carburo di tantalio

In qualità di produttore e produttore avanzato di anelli in carburo di tantalio in Cina, l'anello in carburo di tantalio di VeTek Semiconductor ha una durezza estremamente elevata, resistenza all'usura, resistenza alle alte temperature e stabilità chimica ed è ampiamente utilizzato nel campo della produzione di semiconduttori. Soprattutto nei processi CVD, PVD, impiantazione ionica, processo di incisione e lavorazione e trasporto dei wafer, è un prodotto indispensabile per la lavorazione e la produzione di semiconduttori. In attesa di una vostra ulteriore consultazione.

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Supporto per rivestimento in carburo di tantalio

In qualità di produttore professionale di prodotti di supporto per rivestimento in carburo di tantalio e fabbrica in Cina, il supporto per rivestimento in carburo di tantalio di VeTek Semiconductor viene solitamente utilizzato per il rivestimento superficiale di componenti strutturali o componenti di supporto in apparecchiature a semiconduttori, in particolare per la protezione superficiale di componenti chiave di apparecchiature nei processi di produzione di semiconduttori come CVD e PVD. Accolga favorevolmente la vostra ulteriore consultazione.

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Anello guida in carburo di tantalio

VeTek Semiconductor è un produttore professionale e leader di prodotti con anelli guida in carburo di tantalio in Cina. Il nostro anello guida in carburo di tantalio (TaC) è un componente ad alte prestazioni realizzato in carburo di tantalio, comunemente utilizzato nelle apparecchiature per la lavorazione dei semiconduttori, soprattutto in ambienti ad alta temperatura e altamente corrosivi come CVD, PVD, incisione e diffusione. VeTek Semiconductor si impegna a fornire tecnologie avanzate e soluzioni di prodotto per l'industria dei semiconduttori e accoglie con favore le vostre ulteriori richieste.

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Suscettore di rotazione del rivestimento TaC

In qualità di produttore professionale, innovatore e leader di prodotti suscettori di rotazione del rivestimento TaC in Cina. Il suscettore di rotazione del rivestimento TaC di VeTek Semiconductor viene solitamente installato in apparecchiature di deposizione chimica in fase vapore (CVD) e di epitassia a fascio molecolare (MBE) per supportare e ruotare i wafer per garantire una deposizione uniforme del materiale e una reazione efficiente. È un componente chiave nella lavorazione dei semiconduttori. Accolga favorevolmente la vostra ulteriore consultazione.

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In qualità di produttore e fornitore professionale Rivestimento in carburo di tantalio in Cina, abbiamo la nostra fabbrica. Se hai bisogno di servizi personalizzati per soddisfare le esigenze specifiche della tua regione o desideri acquistare Rivestimento in carburo di tantalio avanzati e durevoli prodotti in Cina, puoi lasciarci un messaggio.