Prodotti

VeTek è un produttore e fornitore professionale in Cina. La nostra fabbrica fornisce fibra di carbonio, ceramica al carburo di silicio, epitassia al carburo di silicio, ecc. Se sei interessato ai nostri prodotti, puoi informarti ora e ti risponderemo tempestivamente.

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Piastra superiore rivestita in SiC per LPE PE2061S

VeTek Semiconductor è da molti anni profondamente impegnata nei prodotti di rivestimento SiC ed è diventato un produttore e fornitore leader di piastre superiori rivestite in SiC per LPE PE2061S in Cina. La piastra superiore rivestita in SiC per LPE PE2061S che forniamo è progettata per reattori epitassiali in silicio LPE e si trova sulla parte superiore insieme alla base del cilindro. Questa piastra superiore rivestita in SiC per LPE PE2061S presenta caratteristiche eccellenti come elevata purezza, eccellente stabilità termica e uniformità, che aiutano a far crescere strati epitassiali di alta qualità. Non importa il prodotto di cui hai bisogno, attendiamo con ansia la tua richiesta.

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Suscettore cilindrico rivestito in SiC per LPE PE2061S

Essendo uno dei principali stabilimenti di produzione di suscettori per wafer in Cina, VeTek Semiconductor ha compiuto continui progressi nei prodotti suscettori per wafer ed è diventata la prima scelta per molti produttori di wafer epitassiali. Il suscettore cilindrico rivestito in SiC per LPE PE2061S fornito da VeTek Semiconductor è progettato per wafer LPE PE2061S da 4 pollici. Il suscettore è dotato di un rivestimento durevole in carburo di silicio che migliora le prestazioni e la durata durante il processo LPE (epitassia in fase liquida). Accogli con favore la tua richiesta, non vediamo l'ora di diventare il tuo partner a lungo termine.

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Soffione doccia a gas SiC solido

Il soffione doccia a gas SiC solido svolge un ruolo importante nel rendere uniforme il gas nel processo CVD, garantendo così un riscaldamento uniforme del substrato. VeTek Semiconductor è da molti anni profondamente coinvolta nel campo dei dispositivi SiC solidi ed è in grado di fornire ai clienti soffioni doccia a gas SiC solidi personalizzati. Non importa quali siano le tue esigenze, attendiamo con ansia la tua richiesta.

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Processo di deposizione chimica in fase vapore Anello in SiC solido

VeTek Semiconductor è sempre impegnata nella ricerca, sviluppo e produzione di materiali semiconduttori avanzati. Oggi, VeTek Semiconductor ha fatto grandi progressi nei prodotti con anelli con bordo in SiC solido ed è in grado di fornire ai clienti anelli con bordo in SiC solido altamente personalizzati. Gli anelli del bordo in SiC solido forniscono una migliore uniformità di incisione e un posizionamento preciso del wafer se utilizzati con un mandrino elettrostatico, garantendo risultati di incisione coerenti e affidabili. Attendo con ansia la vostra richiesta e diventiamo reciproci partner a lungo termine.

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Anello di messa a fuoco in SiC solido

L'anello di messa a fuoco per incisione del SiC solido è uno dei componenti principali del processo di incisione del wafer, che svolge un ruolo nel fissaggio del wafer, nella focalizzazione del plasma e nel miglioramento dell'uniformità dell'incisione del wafer. In qualità di produttore leader di anelli di messa a fuoco SiC in Cina, VeTek Semiconductor dispone di una tecnologia avanzata e di un processo maturo e produce anelli di messa a fuoco incisivi solidi SiC che soddisfano pienamente le esigenze dei clienti finali in base alle esigenze del cliente. Attendiamo con ansia la vostra richiesta e diventiamo reciproci partner a lungo termine.

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