Soffione doccia a gas SiC solido

Soffione doccia a gas SiC solido

VeTek Semiconductor è una società integrata dedicata alla ricerca, produzione e vendita. Con oltre 20 anni di esperienza, il nostro team è specializzato in rivestimenti SiC, TaC e SiC solido CVD. Benvenuti ad acquistare da noi il soffione doccia a gas SiC solido.

I soffioni doccia a gas SiC solidi VeTek Semiconductor sono comunemente utilizzati per distribuire uniformemente i gas precursori sulla superficie del substrato durante i processi CVD dei semiconduttori. L'utilizzo del materiale CVD-SiC per i soffioni doccia offre numerosi vantaggi. La sua elevata conduttività termica aiuta a dissipare il calore generato nel processo CVD, garantendo una distribuzione uniforme della temperatura sul substrato. Inoltre, la stabilità chimica del soffione doccia a gas Solid SiC gli consente di resistere ai gas corrosivi e agli ambienti difficili comunemente incontrati nei processi CVD. Il design dei soffioni doccia CVD-SiC può essere adattato a specifici sistemi CVD e requisiti di processo. Tuttavia, in genere sono costituiti da una piastra o da un componente a forma di disco con una serie di fori o fessure praticati con precisione. La disposizione e la geometria dei fori sono progettate attentamente per garantire una distribuzione uniforme del gas e una velocità del flusso sulla superficie del substrato.

Proprietà fisiche del SiC solido

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Catena industriale dell'epitassia dei semiconduttori