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Barca per wafer SiC

Il Wafer Boat SiC di VeTek Semiconductor è un prodotto ad altissime prestazioni. La nostra Wafer Boat SiC viene solitamente utilizzata nei forni a diffusione di ossidazione dei semiconduttori per garantire che la temperatura sia distribuita uniformemente sul wafer e migliorare la qualità di lavorazione del wafer di silicio. La stabilità alle alte temperature e l'elevata conduttività termica dei materiali SiC garantiscono una lavorazione dei semiconduttori efficiente e affidabile. Ci impegniamo a fornire prodotti di qualità a prezzi competitivi e non vediamo l'ora di essere il vostro partner a lungo termine in Cina.

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Tubo di processo SiC

VeTek Semiconductor fornisce tubi di processo SiC ad alte prestazioni per la produzione di semiconduttori. I nostri tubi di processo SiC eccellono nei processi di ossidazione e diffusione. Con qualità e lavorazione superiori, questi tubi offrono stabilità alle alte temperature e conduttività termica per un'efficiente lavorazione dei semiconduttori. Offriamo prezzi competitivi e cerchiamo di essere il vostro partner a lungo termine in Cina.

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Pagaia a sbalzo SiC

La pala cantilever SiC di VeTek Semiconductor è un prodotto ad altissime prestazioni. La nostra pala a sbalzo SiC viene solitamente utilizzata nei forni di trattamento termico per la movimentazione e il supporto di wafer di silicio, deposizione chimica in fase vapore (CVD) e altri processi di lavorazione nei processi di produzione di semiconduttori. La stabilità alle alte temperature e l'elevata conduttività termica del materiale SiC garantiscono elevata efficienza e affidabilità nel processo di lavorazione dei semiconduttori. Ci impegniamo a fornire prodotti di alta qualità a prezzi competitivi e non vediamo l'ora di diventare il vostro partner a lungo termine in Cina.

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Suscettore planetario ALD

Processo ALD, significa processo di epitassia dello strato atomico. Vetek Semiconductor e i produttori di sistemi ALD hanno sviluppato e prodotto suscettori planetari ALD rivestiti in SiC che soddisfano gli elevati requisiti del processo ALD per distribuire uniformemente il flusso d'aria sul substrato. Allo stesso tempo, il rivestimento CVD SiC ad elevata purezza di Vetek Semiconductor garantisce la purezza del processo. Benvenuti a discutere di cooperazione con noi.

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Anello guida rivestimento TaC

L'anello guida del rivestimento TaC di VeTek Semiconductor viene creato applicando un rivestimento in carburo di tantalio su parti in grafite utilizzando una tecnica altamente avanzata chiamata deposizione chimica da fase vapore (CVD). Questo metodo è ben consolidato e offre proprietà di rivestimento eccezionali. Utilizzando l'anello guida del rivestimento TaC, la durata dei componenti di grafite può essere notevolmente estesa, il movimento delle impurità di grafite può essere soppresso e la qualità del singolo cristallo SiC e AIN può essere mantenuta in modo affidabile. Benvenuti a contattarci.

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Suscettore in grafite rivestito in TaC

Il suscettore in grafite rivestito TaC di VeTek Semiconductor utilizza il metodo di deposizione chimica in fase vapore (CVD) per preparare il rivestimento in carburo di tantalio sulla superficie delle parti in grafite. Questo processo è il più maturo e ha le migliori proprietà di rivestimento. Il suscettore di grafite rivestito in TaC può prolungare la durata dei componenti di grafite, inibire la migrazione delle impurità di grafite e garantire la qualità dell'epitassia. VeTek Semiconductor attende con ansia la tua richiesta.

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