Riscaldatore del rivestimento TaC

VeTek Semiconductor è un produttore e innovatore leader di riscaldatori per rivestimento TaC in Cina. Questo prodotto ha un punto di fusione estremamente elevato (circa 3880°C). L'elevato punto di fusione del riscaldatore di rivestimento TaC gli consente di funzionare a temperature estremamente elevate, in particolare nella crescita degli strati epitassiali di nitruro di gallio (GaN) nel processo di deposizione chimica in fase vapore di metallo organico (MOCVD). VeTek Semiconductor è impegnata a fornire tecnologie avanzate e soluzioni di prodotto per l'industria dei semiconduttori. Non vediamo l'ora di diventare il vostro partner a lungo termine in Cina.

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Descrizione del prodotto

Il riscaldatore di rivestimento TaC è un elemento riscaldante ad alte prestazioni ampiamente utilizzato nei processi di produzione di semiconduttori. La sua superficie è rivestita con materiale in carburo di tantalio (TaC), che conferisce al riscaldatore un'eccellente resistenza alle alte temperature, resistenza alla corrosione chimica ed eccellente conduttività termica.

Le principali applicazioni del riscaldatore di rivestimento TaC nella produzione di semiconduttori includono:

Durante il processo di crescita epitassiale del nitruro di gallio (GaN), il riscaldatore di rivestimento TaC fornisce un ambiente ad alta temperatura controllato con precisione per garantire che lo strato epitassiale venga depositato sul substrato a una velocità uniforme e di alta qualità. La sua emissione di calore stabile aiuta a ottenere un controllo preciso dei materiali a film sottile, migliorando così le prestazioni del dispositivo.

Inoltre, nel processo di deposizione di vapore chimico organico metallico (MOCVD), combinato con la resistenza alle alte temperature e la conduttività termica del rivestimento TaC, il riscaldatore del rivestimento TaC viene solitamente utilizzato per riscaldare il gas di reazione e, fornendo una distribuzione uniforme del calore, favorisce la sua reazione chimica sulla superficie del substrato, migliorando così l'uniformità dello strato epitassiale e formando una pellicola di alta qualità.

In qualità di leader del settore nei prodotti riscaldatori per rivestimento TaC, VeTek Semiconducto supporta sempre servizi di personalizzazione dei prodotti e prezzi dei prodotti soddisfacenti. Indipendentemente dalle vostre esigenze specifiche, troveremo la soluzione migliore per le vostre esigenze del riscaldatore di rivestimento TaC e saremo lieti della vostra consulenza in qualsiasi momento.

Proprietà fisiche di base del riscaldatore di rivestimento TaC:

Proprietà fisiche del rivestimento TaC
Densità	14,3 (g/cm³)
Emissività specifica	0.3
Coefficiente di dilatazione termica	6.3 10-6/K
Durezza (HK)	2000 Hong Kong
Resistenza	1×10-5Ohm*cm
Stabilità termica	<2500 ℃
La dimensione della grafite cambia	-10~-20um
Spessore del rivestimento	Valore tipico ≥20um (35um±10um)