Perno di sollevamento wafer

VeTek Semiconductor è un produttore e innovatore leader di perni di sollevamento wafer EPI in Cina. Siamo specializzati da molti anni nel rivestimento SiC sulla superficie della grafite. Offriamo un perno di sollevamento wafer EPI per il processo Epi. Con l'alta qualità e il prezzo competitivo, vi diamo il benvenuto a visitare la nostra fabbrica in Cina.

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Descrizione del prodotto

VeTek Semiconductor fornisce rivestimento SiC e materiale di rivestimento TaC con un prezzo competitivo e alta qualità, non esitare a contattarci.

Il perno di sollevamento wafer EPI VeTek Semiconductor è un dispositivo chiave progettato specificamente per la produzione di semiconduttori. Viene utilizzato per sollevare e trasportare wafer, garantendo la loro sicurezza e stabilità durante la produzione. Forniamo perno di sollevamento wafer rivestito in SiC, perno della punta, anello di preriscaldamento per il processo EPI.

I nostri perni di sollevamento wafer EPI offrono le seguenti caratteristiche e vantaggi:

● Elevata precisione e stabilità: I nostri perni di sollevamento wafer EPI utilizzano processi e materiali avanzati per garantire elevata precisione e stabilità durante il sollevamento e la movimentazione dei wafer. Può posizionare e fissare con precisione i wafer, evitando la deviazione e il danneggiamento dei wafer durante la produzione.

● Sicurezza e affidabilità: I nostri perni di sollevamento wafer EPI sono realizzati con materiali ad alta resistenza per un'eccellente durata e affidabilità. È in grado di sopportare peso e pressione, garantendo che il wafer non venga danneggiato o lasciato cadere accidentalmente durante la movimentazione.

● Automazione ed efficienza: I nostri perni di sollevamento wafer EPI sono progettati per funzionare in modo autonomo e integrarsi perfettamente con le apparecchiature di produzione di semiconduttori. Può sollevare e spostare i wafer in modo rapido e preciso, aumentando l'efficienza produttiva e riducendo la necessità di operazioni manuali.

● Compatibilità e applicabilità: I nostri perni di sollevamento wafer EPI sono adatti per un'ampia gamma di dimensioni e tipi di wafer, inclusi wafer di diversi diametri e materiali. Può essere compatibile con una varietà di apparecchiature e processi di produzione di semiconduttori ed è adatto a una varietà di ambienti di produzione.

● Supporto affidabile e di alta qualità: Ci impegniamo a fornire prodotti affidabili e di alta qualità e a fornire supporto e servizio completi ai nostri clienti. I nostri perni di sollevamento wafer sono sottoposti a rigorosi controlli di qualità e test per garantirne prestazioni e durata.

Che tu operi nella produzione di wafer, nella ricerca e sviluppo o nella produzione di semiconduttori, i nostri perni di sollevamento wafer ti offrono una soluzione affidabile. Contattaci per saperne di più sui nostri prodotti perni di sollevamento wafer e inizia a lavorare insieme per un futuro brillante!

Proprietà fisiche di base del rivestimento SiC CVD:

Proprietà fisiche di base del rivestimento SiC CVD
Proprietà	Valore tipico
Struttura cristallina	FCC fase β policristallina, prevalentemente orientata (111).
Densità	3,21 g/cm³
Durezza	Durezza 2500 Vickers (carico 500 g)
Granulometria	2~10μm
Purezza chimica	99,99995%
Capacità termica	640 J·kg^-1·K^-1
Temperatura di sublimazione	2700 ℃
Resistenza alla flessione	415 MPa RT a 4 punti
Modulo di Young	Curvatura 4 punti 430 Gpa, 1300 ℃
Conducibilità termica	300W·m^-1·K^-1
Dilatazione termica (CTE)	4,5×10^-6K^-1