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Suscettore epitassiale in grafite GaN per G5
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Suscettore epitassiale in grafite GaN per G5

VeTek Semiconductor è un produttore e fornitore professionale, impegnato a fornire suscettore in grafite epitassiale GaN di alta qualità per G5. abbiamo stabilito partnership stabili e a lungo termine con numerose aziende rinomate in patria e all'estero, guadagnandoci la fiducia e il rispetto dei nostri clienti.

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Descrizione del prodotto

VeTek Semiconductor è un produttore e fornitore cinese di suscettori epitassiali in grafite GaN per G5. Il suscettore in grafite epitassiale GaN per G5 è un componente critico utilizzato nel sistema di deposizione chimica in fase vapore metallo-organica (MOCVD) Aixtron G5 per la crescita di film sottili di nitruro di gallio (GaN) di alta qualità, svolge un ruolo cruciale nel garantire una temperatura uniforme distribuzione, efficiente trasferimento di calore e contaminazione minima durante il processo di crescita.


Caratteristiche principali del suscettore epitassiale in grafite GaN di VeTek Semiconductor per G5:

-Elevata purezza: il suscettore è realizzato in grafite altamente pura con rivestimento CVD, riducendo al minimo la contaminazione dei film GaN in crescita.

-Eccellente conduttività termica: l'elevata conduttività termica della grafite (150-300 W/(m·K)) garantisce una distribuzione uniforme della temperatura attraverso il suscettore, determinando una crescita costante del film GaN.

-Bassa espansione termica: il basso coefficiente di espansione termica del suscettore riduce al minimo lo stress termico e le fessurazioni durante il processo di crescita ad alta temperatura.

-Inerzia chimica: la grafite è chimicamente inerte e non reagisce con i precursori GaN, prevenendo impurità indesiderate nei film cresciuti.

-Compatibilità con Aixtron G5: il suscettore è progettato specificamente per l'uso nel sistema Aixtron G5 MOCVD, garantendo la corretta vestibilità e funzionalità.


Applicazioni:

LED ad alta luminosità: i LED basati su GaN offrono elevata efficienza e lunga durata, rendendoli ideali per l'illuminazione generale, l'illuminazione automobilistica e le applicazioni di visualizzazione.

Transistor ad alta potenza: i transistor GaN offrono prestazioni superiori in termini di densità di potenza, efficienza e velocità di commutazione, rendendoli adatti per applicazioni di elettronica di potenza.

Diodi laser: i diodi laser basati su GaN offrono elevata efficienza e lunghezze d'onda corte, rendendoli ideali per applicazioni di comunicazione e archiviazione ottica.


Parametro del prodotto del suscettore epitassiale in grafite GaN per G5

Proprietà fisiche della grafite isostatica
Proprietà Unità Valore tipico
Densità apparente g/cm³ 1.83
Durezza HSD 58
Resistività elettrica mΩ.m 10
Resistenza alla flessione MPa 47
Resistenza alla compressione MPa 103
Resistenza alla trazione MPa 31
Modulo di Young GPa 11.8
Dilatazione termica (CTE) 10-6K-1 4.6
Conduttività termica W·m-1·K-1 130
Granulometria media µm 8-10
Porosità % 10
Contenuto di cenere ppm ≤10 (dopo purificato)

Nota: prima del rivestimento verrà eseguita la prima purificazione, dopo il rivestimento verrà eseguita la seconda purificazione.


Proprietà fisiche di base del rivestimento SiC CVD
Proprietà Valore tipico
Struttura di cristallo FCC fase β policristallina, prevalentemente orientata (111).
Densità 3,21 g/cm³
Durezza Durezza 2500 Vickers (carico 500 g)
Granulometria 2~10μm
Purezza chimica 99,99995%
Capacità termica 640 J·kg-1·K-1
Temperatura di sublimazione 2700 ℃
Resistenza alla flessione 415 MPa RT a 4 punti
Modulo di Young Curvatura 4 punti 430 Gpa, 1300 ℃
Conduttività termica 300W·m-1·K-1
Dilatazione termica (CTE) 4,5×10-6K-1


Negozio di produzione di semiconduttori VeTek


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