Anello di preriscaldamento

VeTek Semiconductor è un innovatore del produttore di rivestimenti SiC in Cina. L'anello di preriscaldamento fornito da VeTek Semiconductor è progettato per il processo epitassia. Il rivestimento uniforme in carburo di silicio e il materiale in grafite di fascia alta come materie prime garantiscono una deposizione coerente e migliorano la qualità e l'uniformità dello strato epitassiale. Non vediamo l'ora di instaurare una cooperazione a lungo termine con voi.

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Descrizione del prodotto

Il Pre-Heat Ring è un'apparecchiatura chiave progettata specificamente per il processo epitassiale (EPI) nella produzione di semiconduttori. Viene utilizzato per preriscaldare i wafer prima del processo EPI, garantendo stabilità e uniformità della temperatura durante la crescita epitassiale.

Prodotto da VeTek Semiconductor, il nostro anello preriscaldante EPI offre numerose caratteristiche e vantaggi notevoli. Innanzitutto, è costruito utilizzando materiali ad alta conduttività termica, consentendo un trasferimento di calore rapido e uniforme alla superficie del wafer. Ciò impedisce la formazione di punti caldi e gradienti di temperatura, garantendo una deposizione coerente e migliorando la qualità e l'uniformità dello strato epitassiale.

Inoltre, il nostro anello di preriscaldamento EPI è dotato di un avanzato sistema di controllo della temperatura, che consente un controllo preciso e coerente della temperatura di preriscaldamento. Questo livello di controllo migliora l'accuratezza e la ripetibilità di passaggi cruciali come la crescita dei cristalli, la deposizione del materiale e le reazioni dell'interfaccia durante il processo EPI.

Durata e affidabilità sono aspetti essenziali della progettazione dei nostri prodotti. L'anello di preriscaldamento EPI è costruito per resistere a temperature e pressioni operative elevate, mantenendo stabilità e prestazioni per periodi prolungati. Questo approccio progettuale riduce i costi di manutenzione e sostituzione, garantendo affidabilità ed efficienza operativa a lungo termine.

L'installazione e il funzionamento dell'anello di preriscaldamento EPI sono semplici, poiché è compatibile con le comuni apparecchiature EPI. È dotato di un meccanismo di posizionamento e recupero dei wafer di facile utilizzo, che migliora la praticità e l'efficienza operativa.

Noi di VeTek Semiconductor offriamo anche servizi di personalizzazione per soddisfare le specifiche esigenze dei clienti. Ciò include la personalizzazione delle dimensioni, della forma e dell'intervallo di temperatura dell'anello di preriscaldamento EPI per allinearlo alle esigenze di produzione uniche.

Per i ricercatori e i produttori coinvolti nella crescita epitassiale e nella produzione di dispositivi a semiconduttore, l'anello preriscaldante EPI di VeTek Semiconductor offre prestazioni eccezionali e supporto affidabile. Serve come strumento fondamentale per ottenere una crescita epitassiale di alta qualità e facilitare processi di produzione efficienti di dispositivi a semiconduttore.

Proprietà fisiche di base del rivestimento SiC CVD:

Proprietà fisiche di base del rivestimento SiC CVD
Proprietà	Valore tipico
Struttura di cristallo	FCC fase β policristallina, prevalentemente orientata (111).
Densità	3,21 g/cm³
Durezza	Durezza 2500 Vickers (carico 500 g)
Granulometria	2~10μm
Purezza chimica	99,99995%
Capacità termica	640 J·kg-1·K-1
Temperatura di sublimazione	2700 ℃
Resistenza alla flessione	415 MPa RT a 4 punti
Modulo di Young	Curvatura 4 punti 430 Gpa, 1300 ℃
Conduttività termica	300W·m-1·K-1
Dilatazione termica (CTE)	4,5×10-6K-1