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Mandrino rivestito in carburo di tantalio
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Mandrino rivestito in carburo di tantalio

VeTek Semiconductor è un produttore e innovatore leader in Cina di mandrini rivestiti in carburo di tantalio. Siamo specializzati nel rivestimento TaC da molti anni. I nostri prodotti hanno un'elevata purezza e resistenza alle alte temperature fino a 2000 ℃. Non vediamo l'ora di diventare il vostro partner a lungo termine partner in Cina.

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Descrizione del prodotto

VeTek Semiconductor fornisce mandrino rivestito in carburo di tantalio di alta qualità, parti di rivestimento SiC a un prezzo competitivo. Benvenuti a contattarci. Mandrino rivestito in carburo di tantalio di VeTek Semiconductor, progettato specificamente per il sistema AIXTRON G10 MOCVD. Questo accessorio migliora l'efficienza e la qualità nella produzione di semiconduttori, offrendo prestazioni e affidabilità eccezionali.

Realizzato con materiali di alta qualità e prodotto con precisione, il mandrino presenta un substrato di grafite rivestito con carburo di tantalio CVD (TaC). Questo rivestimento fornisce eccellente stabilità termica, elevata purezza e resistenza alle alte temperature. Garantisce prestazioni affidabili nelle condizioni impegnative dei processi MOCVD.

Il mandrino è personalizzabile per accogliere diverse dimensioni di wafer semiconduttori, rendendolo adatto a varie esigenze di produzione. La sua struttura robusta riduce al minimo i tempi di inattività e i costi di manutenzione associati ai supporti wafer e ai suscettori.

Con il mandrino rivestito in carburo di tantalio VeTek Semiconductor, il sistema AIXTRON G10 MOCVD raggiunge una maggiore efficienza e risultati superiori nella produzione di semiconduttori. La sua eccezionale stabilità termica, compatibilità con diverse dimensioni di wafer e prestazioni affidabili lo rendono uno strumento essenziale per ottimizzare l'efficienza produttiva e ottenere risultati eccezionali nel difficile ambiente MOCVD.


Parametro del prodotto del mandrino rivestito in carburo di tantalio

Proprietà fisiche del rivestimento TaC
Densità 14,3 (g/cm³)
Emissività specifica 0.3
Coefficiente di dilatazione termica 6.3 10-6/K
Durezza (HK) 2000 Hong Kong
Resistenza 1×10-5Ohm*cm
Stabilità termica <2500 ℃
La dimensione della grafite cambia -10~-20um
Spessore del rivestimento Valore tipico ≥20um (35um±10um)


Prestazioni del wafer dopo aver utilizzato i nostri componenti:


Negozio di produzione di semiconduttori VeTek


Panoramica della catena industriale dell'epitassia dei chip semiconduttori:


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