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Copertura del rivestimento in carburo di tantalio
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Copertura del rivestimento in carburo di tantalio

VeTek Semiconductor è un produttore e innovatore leader di coperture di rivestimento in carburo di tantalio in Cina. Ci concentriamo sulla fornitura di prodotti in carburo di tantalio di elevata purezza e resistenti alle alte temperature. La nostra copertura rivestita in carburo di tantalio ha prestazioni e affidabilità eccellenti e può proteggere efficacemente i materiali in ambienti corrosivi e a temperature estremamente elevate. Non vediamo l'ora di diventare il vostro partner a lungo termine in Cina.

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Descrizione del prodotto

VeTek Semiconducto è un produttore e fornitore professionale di coperture per rivestimento in carburo di tantalio in Cina. La nostra copertura di rivestimento in carburo di tantalio rappresenta la soluzione più recente nelle applicazioni termiche per i processi di crescita dei cristalli e di epitassia (epi). Questa copertura unica e realizzata con cura è un componente fondamentale per sostenere la formazione dei cristalli e la deposizione della pellicola epitassiale.

Il materiale centrale della copertura in grafite rivestita in TaC è realizzato in grafite di alta qualità, nota per la sua eccellente conduttività termica e stabilità. La capacità della grafite di resistere a temperature estreme lo rende un materiale ideale per applicazioni in campo termico, garantendo longevità e affidabilità in ambienti difficili.

La caratteristica unica della copertura in grafite rivestita in TaC è il suo innovativo rivestimento in carburo di tantalio (TaC). Questo rivestimento avanzato migliora le prestazioni della copertura aggiungendo un robusto strato di protezione e migliorandone la resistenza alla corrosione, all'usura e agli shock termici. Il rivestimento TaC non solo migliora la resistenza della copertura in condizioni difficili, ma ne migliora anche l'efficienza e ne prolunga la durata.

Durante il processo di crescita dei cristalli, la copertura in grafite rivestita in TaC facilita il controllo preciso della temperatura e distribuisce uniformemente il calore, creando un ambiente favorevole alla formazione di cristalli di alta qualità. Inoltre, la sua adattabilità durante il processo di epitassia garantisce la deposizione controllata di film sottili, che è fondamentale per le applicazioni di semiconduttori e scienza dei materiali.

Questo cappuccio in grafite rivestito TaC accuratamente progettato dimostra pienamente la sinergia tra le proprietà intrinseche della grafite e le capacità migliorate fornite dal rivestimento TaC. Sia che venga utilizzato in laboratori, istituti di ricerca o ambienti industriali, il cappuccio in grafite rivestito in TaC è un modello di innovazione della tecnologia termica, fornendo una soluzione affidabile e duratura per la crescita dei cristalli e i processi di epitassia. VeTek Semiconductor continuerà a impegnarsi a fornire ai clienti le soluzioni tecnologiche più avanzate e un supporto completo.


Parametro del prodotto della copertura del rivestimento in carburo di tantalio

Proprietà fisiche del rivestimento TaC
Densità 14,3 (g/cm³)
Emissività specifica 0.3
Coefficiente di dilatazione termica 6.3 10-6/K
Durezza (HK) 2000 Hong Kong
Resistenza 1×10-5Ohm*cm
Stabilità termica <2500 ℃
La dimensione della grafite cambia -10~-20um
Spessore del rivestimento Valore tipico ≥20um (35um±10um)


Negozio di produzione di semiconduttori VeTek


Panoramica della catena industriale dell'epitassia dei chip semiconduttori:


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