VeTek Semiconductor è un produttore e innovatore leader nel settore dei soffioni doccia SiC in Cina. Siamo specializzati nel materiale SiC da molti anni. Il soffione doccia SiC è scelto come materiale per l'anello di focalizzazione grazie alla sua eccellente stabilità termochimica, elevata resistenza meccanica e resistenza all'erosione del plasma Non vediamo l'ora di diventare il vostro partner a lungo termine in Cina.
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I materiali in carburo di silicio presentano una combinazione unica di eccellenti proprietà termiche, elettriche e chimiche, che li rendono ideali per applicazioni nell'industria dei semiconduttori dove sono richiesti materiali ad alte prestazioni.
La tecnologia rivoluzionaria di VeTek Semiconductor consente la produzione di soffioni doccia SiC, un materiale in carburo di silicio di altissima purezza creato attraverso il processo di deposizione chimica da vapore.
Il soffione doccia SiC è un componente cruciale nella produzione di semiconduttori, progettato specificamente per sistemi MOCVD, epitassia del silicio e processi di epitassia SiC. Realizzato in robusto carburo di silicio (SiC) solido, questo componente può resistere alle condizioni estreme della lavorazione al plasma e delle applicazioni ad alta temperatura.
Il carburo di silicio (SiC) è noto per la sua elevata conduttività termica, resistenza alla corrosione chimica ed eccezionale resistenza meccanica, che lo rendono un materiale ideale per componenti SiC sfusi come il soffione doccia SiC. La doccia a gas garantisce una distribuzione uniforme dei gas di processo sulla superficie del wafer, essenziale per la produzione di strati epitassiali di alta qualità. Gli anelli di messa a fuoco e gli anelli di bordo, spesso realizzati in CVD-SiC, mantengono una distribuzione uniforme del plasma e proteggono la camera dalla contaminazione, migliorando l'efficienza e la resa della crescita epitassiale.
Con il suo preciso controllo del flusso di gas e le eccezionali proprietà del materiale, il soffione doccia SiC è un componente chiave nella moderna lavorazione dei semiconduttori, supportando applicazioni avanzate nell'epitassia del silicio e nell'epitassia SiC.
VeTek Semiconductor offre un soffione doccia con semiconduttore in carburo di silicio sinterizzato a bassa resistività. Abbiamo la capacità di progettare su misura e fornire materiali ceramici avanzati utilizzando una varietà di capacità uniche.
Proprietà fisiche del SiC solido | |||
Densità | 3.21 | g/cm3 | |
Resistività elettrica | 102 | Ω/cm | |
Resistenza alla flessione | 590 | MPa | (6000 kgf/cm2) |
Modulo di Young | 450 | GPa | (6000 kgf/mm2) |
Durezza Vickers | 26 | GPa | (2650 kgf/mm²) |
C.T.E.(RT-1000℃) | 4.0 | x10-6/K | |
Conducibilità termica (RT) | 250 | W/mK |