Cina Rivestimento in carburo di silicio Produttore, fornitore, fabbrica

VeTek Semiconductor è specializzata nella produzione di prodotti di rivestimento in carburo di silicio ultra puri, questi rivestimenti sono progettati per essere applicati a grafite purificata, ceramica e componenti metallici refrattari.

I nostri rivestimenti ad elevata purezza sono destinati principalmente all'uso nei settori dei semiconduttori e dell'elettronica. Fungono da strato protettivo per supporti wafer, suscettori ed elementi riscaldanti, proteggendoli dagli ambienti corrosivi e reattivi incontrati in processi come MOCVD ed EPI. Questi processi sono parte integrante della lavorazione dei wafer e della produzione dei dispositivi. Inoltre, i nostri rivestimenti sono particolarmente adatti per applicazioni in forni a vuoto e riscaldamento di campioni, dove si incontrano ambienti ad alto vuoto, reattivi e con ossigeno.

Noi di VeTek Semiconductor offriamo una soluzione completa con le nostre capacità avanzate di officina meccanica. Ciò ci consente di produrre i componenti di base utilizzando grafite, ceramica o metalli refrattari e di applicare internamente i rivestimenti ceramici SiC o TaC. Forniamo anche servizi di rivestimento per le parti fornite dai clienti, garantendo flessibilità per soddisfare le diverse esigenze.

I nostri prodotti di rivestimento in carburo di silicio sono ampiamente utilizzati nell'epitassia Si, epitassia SiC, sistema MOCVD, processo RTP/RTA, processo di incisione, processo di incisione ICP/PSS, processo di vari tipi di LED, inclusi LED blu e verde, LED UV e UV profondo LED ecc., adattato alle apparecchiature LPE, Aixtron, Veeco, Nuflare, TEL, ASM, Annealsys, TSI e così via.

Parti del reattore che possiamo realizzare:

Il rivestimento in carburo di silicio offre diversi vantaggi esclusivi:

Silicon Carbide Coating several unique advantages

Parametro del rivestimento in carburo di silicio VeTek Semiconductor:

Proprietà fisiche di base del rivestimento SiC CVD
Proprietà	Valore tipico
Struttura cristallina	FCC fase β policristallina, prevalentemente orientata (111).
Densità	3,21 g/cm³
Durezza	Durezza 2500 Vickers (carico 500 g)
Granulometria	2~10μm
Purezza chimica	99,99995%
Capacità termica	640 J·kg-1·K-1
Temperatura di sublimazione	2700 ℃
Resistenza alla flessione	415 MPa RT a 4 punti
Modulo di Young	Curvatura 4 punti 430 Gpa, 1300 ℃
Conducibilità termica	300W·m-1·K-1
Dilatazione termica (CTE)	4,5×10-6K-1

SEM data and structure of CVD SIC films

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Supporto per barilotto di wafer rivestito in SiC CVD

Wafer rivestito in SiC CVD Il supporto del barilotto è il componente chiave del forno a crescita epitassiale, ampiamente utilizzato nei forni a crescita epitassiale MOCVD. VeTek Semiconductor fornisce prodotti altamente personalizzati. Indipendentemente dalle tue esigenze per il supporto per barilotto per wafer rivestito SiC CVD, non esitare a consultarci.

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Suscettore del cilindro con rivestimento CVD SiC

Il suscettore del barilotto di rivestimento CVD SiC di VeTek Semiconductor è il componente principale del forno epitassiale di tipo a barile. Con l'aiuto del suscettore del barilotto di rivestimento CVD SiC, la quantità e la qualità della crescita epitassiale sono notevolmente migliorate. VeTek Semiconductor è un produttore e fornitore professionale di rivestimenti SiC Barrel Susceptor, ed è ai livelli leader in Cina e anche nel mondo. VeTek Semiconductor non vede l'ora di stabilire uno stretto rapporto di collaborazione con voi nel industria dei semiconduttori.

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Suscettore Epi wafer con rivestimento CVD SiC

Il wafer di rivestimento SiC CVD di VeTek Semiconductor Il suscettore Epi è un componente indispensabile per la crescita epitassiale del SiC, offrendo gestione termica, resistenza chimica e stabilità dimensionale superiori. Scegliendo il suscettore Epi wafer con rivestimento CVD SiC di VeTek Semiconductor, migliorerai le prestazioni dei tuoi processi MOCVD, ottenendo prodotti di qualità superiore e una maggiore efficienza nelle operazioni di produzione dei semiconduttori. Accolga favorevolmente le vostre ulteriori richieste.

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Suscettore in grafite con rivestimento CVD SiC

Il suscettore in grafite con rivestimento CVD SiC di VeTek Semiconductor è uno dei componenti importanti nel settore dei semiconduttori come la crescita epitassiale e la lavorazione dei wafer. Viene utilizzato nel MOCVD e in altre apparecchiature per supportare la lavorazione e la manipolazione di wafer e altri materiali ad alta precisione. VeTek Semiconductor dispone delle capacità produttive e produttive leader in Cina di suscettori in grafite rivestita in SiC e in grafite rivestita in TaC e attende con impazienza la vostra consulenza.

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Elemento riscaldante con rivestimento CVD SiC

L'elemento riscaldante con rivestimento CVD SiC svolge un ruolo fondamentale nel riscaldamento dei materiali nel forno PVD (deposizione per evaporazione). VeTek Semiconductor è un produttore leader di elementi riscaldanti rivestiti in SiC CVD in Cina. Disponiamo di capacità avanzate di rivestimento CVD e possiamo fornirvi prodotti di rivestimento SiC CVD personalizzati. VeTek Semiconductor non vede l'ora di diventare il vostro partner per gli elementi riscaldanti rivestiti in SiC.

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Ricevitore rotante in grafite

Il suscettore rotante in grafite ad elevata purezza svolge un ruolo importante nella crescita epitassiale del nitruro di gallio (processo MOCVD). VeTek Semiconductor è un produttore e fornitore leader di suscettori rotanti in grafite in Cina. Abbiamo sviluppato molti prodotti in grafite di elevata purezza basati su materiali di grafite di elevata purezza, che soddisfano pienamente i requisiti dell'industria dei semiconduttori. VeTek Semiconductor non vede l'ora di diventare il vostro partner nel suscettore rotante in grafite.

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In qualità di produttore e fornitore professionale Rivestimento in carburo di silicio in Cina, abbiamo la nostra fabbrica. Se hai bisogno di servizi personalizzati per soddisfare le esigenze specifiche della tua regione o desideri acquistare Rivestimento in carburo di silicio avanzati e durevoli prodotti in Cina, puoi lasciarci un messaggio.