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Blocco SiC CVD per la crescita dei cristalli SiC

VeTek Semiconductor si concentra sulla ricerca, sviluppo e industrializzazione di fonti sfuse CVD-SiC, rivestimenti CVD SiC e rivestimenti CVD TaC. Prendendo come esempio il blocco CVD SiC per la crescita dei cristalli SiC, la tecnologia di lavorazione del prodotto è avanzata, il tasso di crescita è rapido, la resistenza alle alte temperature e la resistenza alla corrosione sono forti. Benvenuto per informarsi.

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Nuova tecnologia per la crescita dei cristalli SiC

Il carburo di silicio (SiC) ad altissima purezza di Vetek Semiconductor formato mediante deposizione chimica in fase vapore (CVD) può essere utilizzato come materiale di partenza per la crescita di cristalli di carburo di silicio mediante trasporto fisico di vapore (PVT). Nella nuova tecnologia SiC Crystal Growth, il materiale sorgente viene caricato in un crogiolo e sublimato su un cristallo seme. Utilizzare i blocchi CVD-SiC scartati per riciclare il materiale come fonte per la crescita dei cristalli SiC. Benvenuti a stabilire una partnership con noi.

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Soffione doccia CVD SiC

VeTek Semiconductor è un produttore e innovatore leader di soffioni doccia SiC CVD in Cina. Siamo specializzati in materiali SiC da molti anni. Il soffione doccia SiC CVD è scelto come materiale per l'anello di focalizzazione grazie alla sua eccellente stabilità termochimica, elevata resistenza meccanica e resistenza a erosione del plasma. Non vediamo l'ora di diventare il vostro partner a lungo termine in Cina.

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Soffione doccia SiC

VeTek Semiconductor è un produttore e innovatore leader nel settore dei soffioni doccia SiC in Cina. Siamo specializzati nel materiale SiC da molti anni. Il soffione doccia SiC è scelto come materiale per l'anello di focalizzazione grazie alla sua eccellente stabilità termochimica, elevata resistenza meccanica e resistenza all'erosione del plasma Non vediamo l'ora di diventare il vostro partner a lungo termine in Cina.

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Disco set rivestimento SiC

VeTek Semiconductor, produttore leader di rivestimenti SiC CVD, offre set di dischi di rivestimento SiC nei reattori MOCVD Aixtron. Questi set di dischi con rivestimento SiC sono realizzati utilizzando grafite ad elevata purezza e presentano un rivestimento SiC CVD con impurità inferiore a 5 ppm. Accogliamo con favore richieste su questo prodotto.

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Centro di raccolta rivestimenti SiC

VeTek Semiconductor, un rinomato produttore di rivestimenti SiC CVD, ti offre il centro collettore di rivestimenti SiC all'avanguardia nel sistema Aixtron G5 MOCVD. Questi centri di raccolta del rivestimento SiC sono meticolosamente progettati con grafite ad elevata purezza e vantano un rivestimento CVD SiC avanzato, che garantisce stabilità alle alte temperature, resistenza alla corrosione ed elevata purezza. Non vediamo l'ora di collaborare con voi!

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