MOCVD LED Epi Suscettore

Semiconduttore VeTek'SMOCVD LED Epi Suscettoreè un componente fondamentale. Nel processo di preparazione dei dispositivi a semiconduttore,MOCVD LED Epi Suscettorenon è solo una semplice piattaforma di riscaldamento, ma anche uno strumento di processo di precisione, che ha un profondo impatto sulla qualità, sul tasso di crescita, sull'uniformità e su altri aspetti dei materiali a film sottile.

Gli usi specifici diMOCVD LED Epi Suscettorenella lavorazione dei semiconduttori sono i seguenti:

Riscaldamento del substrato e controllo dell'uniformità:

Il suscettore epitassiale MOCVD viene utilizzato per fornire un riscaldamento uniforme per garantire una temperatura stabile del substrato durante la crescita epitassiale. Ciò è essenziale per ottenere pellicole semiconduttrici di alta qualità e garantire la coerenza dello spessore e della qualità cristallina degli strati epitassiali attraverso il substrato.

Supporto per camere di reattori per la deposizione chimica in fase vapore (CVD).:

Essendo un componente importante nel reattore CVD, Susceptor supporta la deposizione di composti organici metallici sui substrati. Aiuta a convertire accuratamente questi composti in pellicole solide per formare i materiali semiconduttori desiderati.

Promuovere la distribuzione del gas:

Il design di Susceptor può ottimizzare la distribuzione del flusso di gas nella camera di reazione, garantendo che il gas di reazione entri in contatto uniformemente con il substrato, migliorando così l'uniformità e la qualità delle pellicole epitassiali.

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Proprietà fisiche di base del rivestimento SiC CVD:

Negozi di produzione:

Panoramica della catena industriale dell'epitassia dei chip semiconduttori：