Paletta a sbalzo in SiC ad alta purezza

La pala cantilever SiC ad elevata purezza è un componente chiave utilizzato nelle apparecchiature per la lavorazione dei semiconduttori. Il prodotto è realizzato in materiale di carburo di silicio (SiC) di elevata purezza. Combinato con le sue eccellenti caratteristiche di elevata purezza, elevata stabilità termica e resistenza alla corrosione, è ampiamente utilizzato in processi come il trasferimento di wafer, il supporto e la lavorazione ad alta temperatura, fornendo una garanzia affidabile per garantire l'accuratezza del processo e la qualità del prodotto.

In generale, la pala cantilever SiC ad alta purezza svolge i seguenti ruoli specifici nel processo di lavorazione dei semiconduttori:

Trasferimento dei wafer: La pala a sbalzo SiC ad alta purezza viene solitamente utilizzata come dispositivo di trasferimento di wafer in forni di diffusione o ossidazione ad alta temperatura. La sua elevata durezza lo rende resistente all'usura e non facile da deformare durante l'uso a lungo termine e può garantire che il wafer rimanga posizionato accuratamente durante il processo di trasferimento. In combinazione con la sua resistenza alle alte temperature e alla corrosione, può trasferire in sicurezza i wafer dentro e fuori il tubo del forno in ambienti ad alta temperatura senza causare contaminazione o danni ai wafer.

Supporto per wafer: Il materiale SiC ha un basso coefficiente di espansione termica, il che significa che le sue dimensioni cambiano meno al variare della temperatura, il che aiuta a mantenere un controllo preciso nel processo. Nei processi di deposizione chimica da fase vapore (CVD) o deposizione fisica da fase vapore (PVD), la pala cantilever SiC viene utilizzata per supportare e fissare il wafer per garantire che il wafer rimanga stabile e piatto durante il processo di deposizione, migliorando così l'uniformità e la qualità della pellicola .

Applicazione di processi ad alta temperatura: La pala cantilever SiC ha un'eccellente stabilità termica e può resistere a temperature fino a 1600°C. Pertanto, questo prodotto è ampiamente utilizzato nella ricottura ad alta temperatura, nell'ossidazione, nella diffusione e in altri processi.

Proprietà fisiche di base della pala cantilever in SiC ad alta purezza:

Paletta a sbalzo in SiC ad alta purezzanegozi:

Panoramica della catena industriale dell'epitassia dei chip semiconduttori: