Barca per wafer in carburo di silicio
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Barca per wafer in carburo di silicio

Il wafer boat in carburo di silicio ad elevata purezza di VeTek Semiconductor è realizzato in materiale di carburo di silicio estremamente puro con eccellente stabilità termica, resistenza meccanica e resistenza chimica. Il wafer boat in carburo di silicio ad elevata purezza viene utilizzato in applicazioni in zone calde nella produzione di semiconduttori, in particolare in ambienti ad alta temperatura, e svolge un ruolo importante nella protezione dei wafer, nel trasporto di materiali e nel mantenimento dei processi stabili. VeTek Semiconductor continuerà a lavorare duramente per innovare e migliorare le prestazioni dei wafer boat in carburo di silicio ad elevata purezza per soddisfare le esigenze in evoluzione della produzione di semiconduttori. Non vediamo l'ora di diventare il vostro partner a lungo termine in Cina.

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Descrizione del prodotto

In qualità di produttore professionale, VeTek Semiconductor desidera fornirvi un wafer boat in carburo di silicio di alta qualità.

Eccellenti prestazioni termiche: i wafer boat in carburo di silicio ad alta purezza di VeTek Semiconductor hanno eccellenti prestazioni termiche, sono stabili in ambienti ad alta temperatura e hanno un'eccellente conduttività termica, consentendo loro di funzionare a temperature molto superiori a quelle ambientali. Ciò rende la barca wafer in carburo di silicio di elevata purezza ideale per applicazioni di resistenza ad alta potenza e alta temperatura.

Eccellente resistenza alla corrosione: il wafer boat in carburo di silicio di elevata purezza è uno strumento chiave per la produzione di semiconduttori e ha una forte resistenza a vari agenti corrosivi. Essendo un vettore affidabile, può resistere agli effetti delle alte temperature e della corrosione in un ambiente chimico, garantendo la lavorazione sicura ed efficace dei wafer in carburo di silicio. Essendo un vettore affidabile, può resistere agli effetti delle alte temperature e della corrosione in un ambiente chimico, garantendo la lavorazione sicura ed efficace dei wafer in carburo di silicio.

Integrità dimensionale: il wafer boat in carburo di silicio ad elevata purezza non si restringe durante il processo di sinterizzazione, mantenendo l'integrità dimensionale ed eliminando le tensioni residue che potrebbero causare deformazioni o rotture delle parti. Ciò consente la produzione di parti di forma complessa con dimensioni precise. Sia nella produzione di dispositivi a semiconduttore che in altri settori industriali, i wafer boat in carburo di silicio ad elevata purezza forniscono un controllo dimensionale affidabile per garantire che le parti soddisfino le specifiche.

Essendo uno strumento versatile, il wafer boat in carburo di silicio ad elevata purezza di VeTek Semiconductor può essere applicato a una varietà di tecnologie di produzione di semiconduttori, tra cui la crescita epitassiale e la deposizione di vapori chimici. Il suo design durevole e la natura non reattiva rendono la barca per wafer in carburo di silicio ad elevata purezza adatta a una varietà di prodotti chimici di lavorazione, garantendo che possa adattarsi senza problemi a diversi ambienti di lavorazione.

Nella produzione di semiconduttori, la crescita epitassiale e la deposizione chimica da vapore sono fasi del processo comuni utilizzate per sviluppare wafer e film sottili di alta qualità. La barca SiC ad elevata purezza svolge un ruolo importante come vettore, in grado di resistere all'influenza delle alte temperature e delle sostanze chimiche per garantire processi di crescita e deposizione accurati.

Oltre al design durevole, la barca in SiC ad elevata purezza è anche non reattiva. Ciò significa che non reagirà negativamente con i prodotti chimici di lavorazione, mantenendo così l'integrità e le prestazioni dell'imbarcazione. Ciò fornisce ai produttori di semiconduttori uno strumento affidabile per garantire coerenza e ripetibilità nel processo di produzione.


Proprietà fisiche del carburo di silicio ricristallizzato

Proprietà fisiche del carburo di silicio ricristallizzato
Proprietà Valore tipico
Temperatura di lavoro (°C) 1600°C (con ossigeno), 1700°C (ambiente riducente)
Contenuto di SiC > 99,96%
Contenuti Si gratuiti <0,1%
Densità apparente 2,60-2,70 g/cm3
Porosità apparente < 16%
Resistenza alla compressione > 600MPa
Resistenza alla flessione a freddo 80-90MPa (20°C)
Resistenza alla flessione a caldo 90-100MPa (1400°C)
Dilatazione termica @1500°C 4.70 10-6/°C
Conducibilità termica @1200°C 23  W/m•K
Modulo elastico 240 GPa
Resistenza agli shock termici Estremamente buono


Negozio di produzione di semiconduttori VeTek


Panoramica della catena industriale dell'epitassia dei chip semiconduttori:


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