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Paletta a sbalzo in carburo di silicio
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Paletta a sbalzo in carburo di silicio

La pala cantilever in carburo di silicio di VeTek Semiconductor è un componente importante nel processo di produzione dei semiconduttori, particolarmente adatto per forni a diffusione o forni LPCVD in processi ad alta temperatura come diffusione e RTP. La nostra pala cantilever in carburo di silicio è accuratamente progettata e realizzata con eccellente resistenza alle alte temperature e resistenza meccanica e può trasportare in modo sicuro e affidabile i wafer al tubo di processo in condizioni di processo difficili per vari processi ad alta temperatura come diffusione e RTP. Non vediamo l'ora di diventare il vostro partner a lungo termine in Cina.

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Descrizione del prodotto

Puoi essere certo di acquistare una pala cantilever in carburo di silicio personalizzata da VeTek Semiconducto. Non vediamo l'ora di collaborare con te, se vuoi saperne di più, puoi consultarci ora, ti risponderemo in tempo!

La pala cantilever in carburo di silicio di VeTek Semiconductor è realizzata in carburo di silicio di elevata purezza e ha un'eccellente resistenza alle alte temperature e resistenza meccanica. È un componente chiave indispensabile nel processo di produzione dei semiconduttori, in particolare nei forni a diffusione o LPCVD e nei processi RTP. La progettazione e la produzione precise della pala cantilever in carburo di silicio garantiscono il posizionamento e il trasferimento sicuri dei wafer per soddisfare i requisiti di processo di alta precisione.

La pala cantilever in carburo di silicio di VeTek Semiconductor è realizzata in carburo di silicio come materiale principale. Il carburo di silicio ha le caratteristiche di elevata resistenza e buona stabilità termica, quindi può resistere a condizioni difficili nell'ambiente di processo ad alta temperatura dei forni per semiconduttori. Uno dei motivi per scegliere il carburo di silicio è perché può adattarsi all'ambiente ad alta temperatura nei forni per semiconduttori.

Il design della pala a sbalzo in carburo di silicio consente di estenderla nel tubo di processo nel forno e di essere fissata saldamente a un'estremità all'esterno del tubo. Questo design garantisce che il wafer in lavorazione rimanga stabile e supportato durante il processo e riduce al minimo le interferenze con l'ambiente termico nel forno.

VeTek Semiconductor si impegna a fornire prodotti a paletta cantilever SiC di alta qualità. I nostri prodotti sono attentamente progettati e realizzati per soddisfare i severi requisiti del processo di produzione dei semiconduttori. Le eccellenti prestazioni e l'affidabilità della pala cantilever in carburo di silicio la rendono un componente chiave indispensabile nell'industria dei semiconduttori. VeTek Semiconductor si impegna a fornire prodotti di qualità a prezzi competitivi e non vediamo l'ora di diventare il vostro partner a lungo termine in Cina.


Parametro del prodotto della pala a sbalzo in carburo di silicio

Proprietà fisiche del carburo di silicio ricristallizzato
Proprietà Valore tipico
Temperatura di lavoro (°C) 1600°C (con ossigeno), 1700°C (ambiente riducente)
Contenuto di SiC > 99,96%
Contenuti Si gratuiti <0,1%
Densità apparente 2,60-2,70 g/cm3
Porosità apparente < 16%
Resistenza alla compressione > 600MPa
Resistenza alla flessione a freddo 80-90MPa (20°C)
Resistenza alla flessione a caldo 90-100MPa (1400°C)
Dilatazione termica @1500°C 4.70 10-6/°C
Conducibilità termica @1200°C 23  W/m•K
Modulo elastico 240 GPa
Resistenza agli shock termici Estremamente buono


Negozio di produzione di semiconduttori VeTek


Panoramica della catena industriale dell'epitassia dei chip semiconduttori:


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