Recettore Aixtron MOCVD
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Recettore Aixtron MOCVD

In qualità di produttore e fornitore professionale di susceptor Aixtron MOCVD in Cina, il susceptor Aixtron MOCVD di Vetek Semiconductor è ampiamente utilizzato nel processo di deposizione di film sottile della produzione di semiconduttori, in particolare nel processo MOCVD. Vetek Semiconductor si concentra sulla produzione e fornitura di suscettori Aixtron MOCVD ad alte prestazioni. Accolga favorevolmente la vostra indagine.

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Descrizione del prodotto

I suscettori prodotti daVetek Semiconduttoresono realizzati con substrato di grafite e materiale di rivestimento in carburo di silicio (SiC). Data la maggiore resistenza all'usura, alla corrosione e la durezza estremamente elevata del materiale SiC, è particolarmente adatto per l'uso in ambienti di processo difficili. Pertanto, i suscettori prodotti da Vetek Semiconductor possono essere utilizzati direttamente nei processi MOCVD ad alta temperatura senza ulteriore trattamento superficiale.


I suscettori sono componenti chiave nella produzione di semiconduttori, in particolare nelle apparecchiature MOCVD per i processi di deposizione di film sottili. Il ruolo principale diRicevitore SiC Aixtronnel processo MOCVD è quello di trasportare wafer semiconduttori, garantire una deposizione uniforme e di alta qualità di film sottili fornendo una distribuzione uniforme del calore e un ambiente di reazione, ottenendo così una produzione di film sottile di alta qualità.


Recettore Aixtron MOCVDviene solitamente utilizzato per supportare e fissare la base dei wafer semiconduttori per garantire la stabilità del wafer durante il processo di deposizione. Allo stesso tempo, il rivestimento superficiale del susceptor Aixtron MOCVD è realizzato in carburo di silicio (SiC), un materiale altamente conduttivo termicamente. Il rivestimento SiC garantisce una temperatura uniforme sulla superficie del wafer e un riscaldamento uniforme è essenziale per ottenere pellicole di alta qualità.


Inoltre, ilRecettore Aixtron MOCVDproduciamo svolge un ruolo maggiore nel controllo del flusso e della distribuzione dei gas reattivi attraverso la progettazione ottimizzata dei materiali. Evitare correnti parassite e gradienti di temperatura per ottenere una deposizione uniforme della pellicola.


Ancora più importante, nel processo MOCVD, il materiale di rivestimento in carburo di silicio (SiC) ha resistenza alla corrosioneVetek Semiconduttore'SRecettore Aixtron MOCVDpuò resistere anche alle alte temperature e ai gas corrosivi.


Proprietà fisiche fondamentali diRIVESTIMENTO SIC:



Negozi di barche Wafer VeTek Semiconductor:


Panoramica della catena industriale dell'epitassia dei chip semiconduttori:

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