Tecnologia di spruzzatura termica dei semiconduttori

La tecnologia di spruzzatura termica dei semiconduttori è un processo avanzato che spruzza materiali in uno stato fuso o semifuso sulla superficie di un substrato per formare un rivestimento. Questa tecnologia è ampiamente utilizzata nel campo della produzione di semiconduttori, utilizzata principalmente per creare rivestimenti con funzioni specifiche sulla superficie del substrato, come conduttività, isolamento, resistenza alla corrosione e resistenza all'ossidazione. I principali vantaggi della tecnologia di spruzzatura termica includono alta efficienza, spessore del rivestimento controllabile e buona adesione del rivestimento, che la rendono particolarmente importante nel processo di produzione dei semiconduttori che richiede elevata precisione e affidabilità.

Applicazione della tecnologia di spruzzatura termica nei semiconduttori

Incisione con fascio di plasma (incisione a secco)

Solitamente si riferisce all'uso della scarica a bagliore per generare particelle attive al plasma contenenti particelle cariche come plasma ed elettroni e atomi e molecole neutre altamente attive chimicamente e radicali liberi, che si diffondono nella parte da incidere, reagiscono con il materiale inciso, formano sostanze volatili prodotti e vengono rimossi, completando così la tecnologia di incisione del trasferimento del modello. Si tratta di un processo insostituibile per realizzare il trasferimento ad alta fedeltà di modelli fini da modelli fotolitografici a wafer nella produzione di circuiti integrati su scala ultra-larga.

Verrà generato un gran numero di radicali liberi attivi come Cl e F. Quando incidono i dispositivi a semiconduttore, corrodono le superfici interne di altre parti dell'apparecchiatura, comprese le leghe di alluminio e le parti strutturali in ceramica. Questa forte erosione produce un gran numero di particelle, che non solo richiedono una manutenzione frequente delle apparecchiature di produzione, ma causano anche il guasto della camera del processo di incisione e, nei casi più gravi, danni al dispositivo.

Y2O3 è un materiale con proprietà chimiche e termiche molto stabili. Il suo punto di fusione è molto superiore a 2400 ℃. Può rimanere stabile in un ambiente fortemente corrosivo. La sua resistenza al bombardamento con plasma può prolungare notevolmente la durata dei componenti e ridurre le particelle nella camera di attacco.

La soluzione tradizionale è spruzzare un rivestimento Y2O3 ad elevata purezza per proteggere la camera di incisione e altri componenti chiave.