Cina Epitassia del silicio Produttore, fornitore, fabbrica

Epitassia del silicio, EPI, epitassia, epitassiale si riferisce alla crescita di uno strato di cristallo con la stessa direzione cristallina e diverso spessore cristallino su un singolo substrato di silicio cristallino. La tecnologia di crescita epitassiale è necessaria per la produzione di componenti discreti semiconduttori e circuiti integrati, poiché le impurità contenute nei semiconduttori includono il tipo N e il tipo P. Attraverso una combinazione di diversi tipi, i dispositivi a semiconduttore presentano una varietà di funzioni.

Il metodo di crescita dell'epitassia del silicio può essere suddiviso in epitassia in fase gassosa, epitassia in fase liquida (LPE), epitassia in fase solida, il metodo di crescita con deposizione di vapore chimico è ampiamente utilizzato nel mondo per soddisfare l'integrità del reticolo.

L'apparecchiatura epitassiale tipica del silicio è rappresentata dalla società italiana LPE, che dispone di un tor ipnotico epitassiale pancake, un tor ipnotico di tipo barile, un tor ipnotico a semiconduttore, un supporto per wafer e così via. Il diagramma schematico della camera di reazione dell'ipelettore epitassiale a forma di botte è il seguente. VeTek Semiconductor può fornire un hy pelettore epitassiale con wafer a forma di barile. La qualità del pannello HY rivestito in SiC è molto matura. Qualità equivalente a SGL; Allo stesso tempo, VeTek Semiconductor può anche fornire ugelli al quarzo con cavità di reazione epitassiale in silicio, deflettori al quarzo, campane di vetro e altri prodotti completi.

Sucettore epitassiale verticale per epitassia al silicio:

Sucettore epitassiale in silicio Suscettore wafer di tipo barile Ricevitore a semiconduttore Suscettore rivestito in SiC

Sucettore epitassiale orizzontale per epitassia al silicio:

Se il ricevitore epitassiale Portatore di frittelle Suscettore rivestito in SiC