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Barca per wafer SiC

Il Wafer Boat SiC di VeTek Semiconductor è un prodotto ad altissime prestazioni. La nostra Wafer Boat SiC viene solitamente utilizzata nei forni a diffusione di ossidazione dei semiconduttori per garantire che la temperatura sia distribuita uniformemente sul wafer e migliorare la qualità di lavorazione del wafer di silicio. La stabilità alle alte temperature e l'elevata conduttività termica dei materiali SiC garantiscono una lavorazione dei semiconduttori efficiente e affidabile. Ci impegniamo a fornire prodotti di qualità a prezzi competitivi e non vediamo l'ora di essere il vostro partner a lungo termine in Cina.

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Tubo di processo SiC

VeTek Semiconductor fornisce tubi di processo SiC ad alte prestazioni per la produzione di semiconduttori. I nostri tubi di processo SiC eccellono nei processi di ossidazione e diffusione. Con qualità e lavorazione superiori, questi tubi offrono stabilità alle alte temperature e conduttività termica per un'efficiente lavorazione dei semiconduttori. Offriamo prezzi competitivi e cerchiamo di essere il vostro partner a lungo termine in Cina.

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Pagaia a sbalzo SiC

La pala cantilever SiC di VeTek Semiconductor è un prodotto ad altissime prestazioni. La nostra pala a sbalzo SiC viene solitamente utilizzata nei forni di trattamento termico per la movimentazione e il supporto di wafer di silicio, deposizione chimica in fase vapore (CVD) e altri processi di lavorazione nei processi di produzione di semiconduttori. La stabilità alle alte temperature e l'elevata conduttività termica del materiale SiC garantiscono elevata efficienza e affidabilità nel processo di lavorazione dei semiconduttori. Ci impegniamo a fornire prodotti di alta qualità a prezzi competitivi e non vediamo l'ora di diventare il vostro partner a lungo termine in Cina.

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Suscettore di rivestimento SiC

Vetek Semiconductor si concentra sulla ricerca, sviluppo e industrializzazione del rivestimento CVD SiC e del rivestimento CVD TaC. Prendendo come esempio il suscettore del rivestimento SiC, il prodotto è altamente lavorato con rivestimento CVD SIC denso e ad alta precisione, resistenza alle alte temperature e forte resistenza alla corrosione. Un'indagine su di noi è benvenuta.

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Blocco SiC CVD per la crescita dei cristalli SiC

VeTek Semiconductor si concentra sulla ricerca, sviluppo e industrializzazione di fonti sfuse CVD-SiC, rivestimenti CVD SiC e rivestimenti CVD TaC. Prendendo come esempio il blocco CVD SiC per la crescita dei cristalli SiC, la tecnologia di lavorazione del prodotto è avanzata, il tasso di crescita è rapido, la resistenza alle alte temperature e la resistenza alla corrosione sono forti. Benvenuto per informarsi.

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Nuova tecnologia per la crescita dei cristalli SiC

Il carburo di silicio (SiC) ad altissima purezza di Vetek Semiconductor formato mediante deposizione chimica in fase vapore (CVD) può essere utilizzato come materiale di partenza per la crescita di cristalli di carburo di silicio mediante trasporto fisico di vapore (PVT). Nella nuova tecnologia SiC Crystal Growth, il materiale sorgente viene caricato in un crogiolo e sublimato su un cristallo seme. Utilizzare i blocchi CVD-SiC scartati per riciclare il materiale come fonte per la crescita dei cristalli SiC. Benvenuti a stabilire una partnership con noi.

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