Questo articolo introduce principalmente i tipi di prodotto, le caratteristiche del prodotto e le principali funzioni del rivestimento TaC nella lavorazione dei semiconduttori e fornisce un'analisi e un'interpretazione complete dei prodotti del rivestimento TaC nel loro insieme.
Per saperne di piùQuesto articolo introduce principalmente i tipi di prodotto, le caratteristiche del prodotto e le principali funzioni del susceptor MOCVD nella lavorazione dei semiconduttori e fornisce un'analisi e un'interpretazione complete dei prodotti del susceptor MOCVD nel loro insieme.
Per saperne di piùNel settore della produzione di semiconduttori, poiché le dimensioni dei dispositivi continuano a ridursi, la tecnologia di deposizione di materiali a film sottile ha posto sfide senza precedenti. La deposizione di strati atomici (ALD), in quanto tecnologia di deposizione di film sottili in grado di......
Per saperne di piùÈ ideale per costruire circuiti integrati o dispositivi a semiconduttore su uno strato di base cristallino perfetto. Il processo di epitassia (epi) nella produzione di semiconduttori mira a depositare un sottile strato monocristallino, solitamente da circa 0,5 a 20 micron, su un substrato monocrista......
Per saperne di piùLa principale differenza tra epitassia e deposizione di strati atomici (ALD) risiede nei meccanismi di crescita del film e nelle condizioni operative. L'epitassia si riferisce al processo di crescita di una pellicola sottile cristallina su un substrato cristallino con una relazione di orientamento s......
Per saperne di piùIl rivestimento CVD TAC è un processo per formare un rivestimento denso e durevole su un substrato (grafite). Questo metodo prevede il deposito di TaC sulla superficie del substrato ad alte temperature, ottenendo un rivestimento in carburo di tantalio (TaC) con eccellente stabilità termica e resiste......
Per saperne di più