Recettore ALD

Come professionistaRicevitore ALDproduttore in Cina, il nostro prodottoRicevitore ALDCiò è determinato dal controllo preciso della temperatura, dalla distribuzione uniforme del gas, dall'eccellente conduttività termica e da altre caratteristiche del prodottoRicevitore ALDsvolge un ruolo cruciale nel processo di deposizione dello strato atomico (ALD). Ruolo importante, accolga favorevolmente la vostra consultazione.

Deposizione uniforme di film sottile:ALD Susceptor garantisce la deposizione uniforme di strati atomici sull'intera superficie del wafer durante il processo di deposizione di strati atomici (ALD). Il suo esclusivo design rotante consente ai gas e ai reagenti di entrare in contatto uniformemente con la superficie del wafer, ottenendo uno spessore uniforme della pellicola. Questo è fondamentale per la produzione di semiconduttori ad alta precisione.

Migliorare la qualità della deposizione: Ottimizzando il controllo della temperatura e la distribuzione del gas, il susceptor ALD migliora significativamente la qualità e le prestazioni della pellicola, riducendo difetti e non uniformità. Ciò lo rende ideale per la produzione di semiconduttori e dispositivi elettronici di alta precisione, garantendo affidabilità e prestazioni del prodotto.

Supporta l'elaborazione multi-wafer:Alcuni design dei suscettori ALD consentono la lavorazione simultanea di più wafer, aumentando l'efficienza della produzione. Ciò è particolarmente importante per gli ambienti di produzione ad alto rendimento, in grado di soddisfare le esigenze della produzione su larga scala.

Può ospitare diverse dimensioni e tipi di waferI suscettori :ALD sono generalmente progettati per un'elevata compatibilità e possono supportare diverse dimensioni e tipi di wafer. Ciò lo rende efficace in una varietà di processi produttivi, fornendo maggiore flessibilità e adattabilità.

Ridurre i costi di produzione:Grazie alla sua efficiente distribuzione del gas e alle capacità di riscaldamento uniforme, il susceptor ALD aumenta l'efficienza del processo di deposizione, riducendo così gli sprechi di materiale e i costi di produzione. Ciò non solo aiuta a migliorare l’efficienza produttiva, ma riduce anche significativamente i costi di produzione.

Proprietà fisiche di base del rivestimento SiC CVD:

Negozi di produzione:

Panoramica della catena industriale dell'epitassia dei chip semiconduttori：