Crogiolo di grafite a tre petali

Il crogiolo in grafite a tre petali di VeTek Semiconductor è un contenitore speciale progettato per il trattamento termico di materiali semiconduttori, in particolare per la produzione di cristalli singoli. Svolge un ruolo fondamentale nel controllo della crescita delle strutture monocristalline necessarie per la produzione di dispositivi a semiconduttore. VeTek Semiconductor non vede l'ora di diventare il vostro partner a lungo termine in Cina.

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Descrizione del prodotto

VeTek Semiconductor è un produttore e fornitore professionale di crogiolo di grafite a tre petali in Cina. Benvenuti a contattarci! Il crogiolo di grafite a tre petali di VeTek Semiconductor è realizzato principalmente con materiale di grafite di elevata purezza, che offre eccellente stabilità termica, resistenza chimica e proprietà di espansione termica. Queste caratteristiche consentono al crogiolo di grafite a tre petali di VeTek Semiconductor di resistere a condizioni estreme durante la lavorazione ad alta temperatura.

Il crogiolo in grafite a tre petali è progettato con precisione per gestire le difficili condizioni dei processi di produzione dei semiconduttori. Presenta un robusto design cilindrico con una superficie interna liscia, che facilita la distribuzione uniforme del calore e la crescita dei cristalli. Inoltre, il crogiolo in grafite a tre petali di VeTek Semiconductor è progettato per ridurre al minimo il rischio di contaminazione del materiale semiconduttore da parte di impurità.

Il crogiolo di grafite a tre petali presenta un'eccezionale conduttività termica, garantendo un efficiente trasferimento di calore e una distribuzione uniforme della temperatura durante il processo di cristallizzazione. Ciò favorisce la crescita uniforme dei cristalli e riduce al minimo i gradienti termici che possono influire sulla qualità del prodotto.

Il crogiolo in grafite a tre petali di VeTek Semiconductor trova ampia applicazione in vari processi di produzione di semiconduttori, inclusa la crescita di lingotti di silicio monocristallino attraverso tecniche come il metodo Czochralski e il metodo della zona flottante. Questi crogioli forniscono un ambiente stabile e controllato per la precisa formazione dei cristalli semiconduttori, fondamentale per la produzione di materiali di alta qualità per dispositivi elettronici.

Per le specifiche dettagliate del prodotto del crogiolo di grafite a tre petali, contattare VeTek Semiconductor.

Parametro del prodotto del crogiolo di grafite a tre petali

Proprietà fisiche della grafite isostatica
Proprietà	Unità	Valore tipico
Densità apparente	g/cm³	1.83
Durezza	HSD	58
Resistività elettrica	mΩ.m	10
Resistenza alla flessione	MPa	47
Resistenza alla compressione	MPa	103
Resistenza alla trazione	MPa	31
Modulo di Young	GPa	11.8
Dilatazione termica (CTE)	10-6K-1	4.6
Conduttività termica	W·m-1·K-1	130
Granulometria media	µm	8-10
Porosità	%	10
Contenuto di cenere	ppm	≤10 (dopo purificato)