Suscettore per ricottura termica rapida

Il suscettore per ricottura termica rapida VeTek Semiconductor è di alta qualità e lunga durata, non esitare a contattarci.

La ricottura termica rapida (RTA) è un sottoinsieme cruciale del trattamento termico rapido utilizzato nella fabbricazione di dispositivi a semiconduttore. Prevede il riscaldamento dei singoli wafer per modificarne le proprietà elettriche attraverso vari trattamenti termici mirati. Il processo RTA consente l'attivazione di droganti, l'alterazione delle interfacce del substrato film-film o film-wafer, la densificazione dei film depositati, la modifica degli stati dei film cresciuti, la riparazione dei danni da impianto ionico, il movimento dei droganti e il passaggio dei droganti tra i film o nel substrato del wafer.

Il prodotto VeTek Semiconductor, il suscettore di ricottura termica rapida, svolge un ruolo vitale nel processo RTP. È costruito utilizzando materiale di grafite di elevata purezza con un rivestimento protettivo di carburo di silicio inerte (SiC). Il substrato in silicio rivestito in SiC può resistere a temperature fino a 1100°C, garantendo prestazioni affidabili anche in condizioni estreme. Il rivestimento SiC fornisce un'eccellente protezione contro le perdite di gas e la dispersione di particelle, garantendo la longevità del prodotto.

Per mantenere un controllo preciso della temperatura, il chip è incapsulato tra due componenti di grafite ad elevata purezza rivestiti con SiC. È possibile ottenere misurazioni precise della temperatura tramite sensori ad alta temperatura integrati o termocoppie a contatto con il substrato.

Proprietà fisiche di base del rivestimento SiC CVD:

Negozio di produzione di semiconduttori VeTek

Panoramica della catena industriale dell'epitassia dei chip semiconduttori: