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Riscaldatore MOCVD in grafite con rivestimento SiC

VeTeK Semiconductor produce riscaldatore MOCVD in grafite con rivestimento SiC, che è un componente chiave del processo MOCVD. Basata su un substrato di grafite di elevata purezza, la superficie è rivestita con un rivestimento SiC di elevata purezza per fornire un'eccellente stabilità alle alte temperature e resistenza alla corrosione. Con servizi di alta qualità e prodotti altamente personalizzati, il riscaldatore MOCVD in grafite con rivestimento SiC di VeTeK Semiconductor è la scelta ideale per garantire la stabilità del processo MOCVD e la qualità della deposizione di film sottile. VeTeK Semiconductor non vede l'ora di diventare il tuo partner.

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Suscettore epitassiale planetario SiC con rivestimento CVD TaC

Il suscettore epitassiale SiC planetario con rivestimento CVD TaC è uno dei componenti principali del reattore planetario MOCVD. Attraverso il rivestimento CVD TaC del suscettore epitassiale planetario SiC, il disco grande orbita e il disco piccolo ruota, e il modello di flusso orizzontale viene esteso alle macchine multi-chip, in modo che abbia sia la gestione dell'uniformità della lunghezza d'onda epitassiale di alta qualità che l'ottimizzazione dei difetti del singolo -macchine a chip e vantaggi in termini di costi di produzione delle macchine multi-chip. VeTek Semiconductor può fornire ai clienti un suscettore epitassiale SiC planetario con rivestimento CVD TaC altamente personalizzato. Se anche tu vuoi realizzare un forno planetario MOCVD come Aixtron, vieni da noi!

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Rivestimento SiC Vassoio epitassiale in silicio monocristallino

Il rivestimento SiC Il vassoio epitassiale in silicio monocristallino è un accessorio importante per il forno di crescita epitassiale in silicio monocristallino, garantendo un inquinamento minimo e un ambiente di crescita epitassiale stabile. Il rivestimento SiC di VeTek Semiconductor Il vassoio epitassiale in silicio monocristallino ha una durata estremamente lunga e offre una varietà di opzioni di personalizzazione. VeTek Semiconductor non vede l'ora di diventare il vostro partner a lungo termine in Cina.

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Supporto per wafer SiC solido

Il solido supporto per wafer SiC di VeTek Semiconductor è progettato per ambienti resistenti alle alte temperature e alla corrosione nei processi epitassiali dei semiconduttori ed è adatto a tutti i tipi di processi di produzione di wafer con requisiti di elevata purezza. VeTek Semiconductor è un fornitore leader di supporti per wafer in Cina e non vede l'ora di diventare il vostro partner a lungo termine nel settore dei semiconduttori.

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Copertura satellitare rivestita in SiC per MOCVD

In qualità di produttore e fornitore leader di coperture satellitari rivestite in SiC per prodotti MOCVD in Cina, le coperture satellitari rivestite in SiC di Vetek Semiconductor per prodotti MOCVD hanno un'estrema resistenza alle alte temperature, un'eccellente resistenza all'ossidazione e un'eccellente resistenza alla corrosione, svolgendo un ruolo insostituibile nel garantire un'epitassiale di alta qualità. crescita sui wafer. Accolga favorevolmente le vostre ulteriori richieste.

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Soffione doccia a forma di disco in SiC massiccio

VeTek Semiconductor è un produttore leader di apparecchiature per semiconduttori in Cina e un produttore e fornitore professionale di soffioni doccia a forma di disco SiC solidi. Il nostro soffione doccia a forma di disco è ampiamente utilizzato nella produzione di deposizione di film sottile come il processo CVD per garantire una distribuzione uniforme del gas di reazione ed è uno dei componenti principali del forno CVD.

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