Cos'è il rivestimento in carburo di tantalio?

Il materiale ceramico in carburo di tantalio (TaC) ha un punto di fusione fino a 3880 ℃ ed è un composto con un punto di fusione elevato e una buona stabilità chimica. Può mantenere prestazioni stabili in ambienti ad alta temperatura. Inoltre, ha anche resistenza alle alte temperature, resistenza alla corrosione chimica e buona compatibilità chimica e meccanica con i materiali in carbonio, che lo rendono un materiale di rivestimento protettivo ideale per il substrato di grafite. 

Il rivestimento in carburo di tantalio può proteggere efficacemente i componenti in grafite dagli effetti dell'ammoniaca calda, dell'idrogeno, dei vapori di silicio e del metallo fuso in ambienti di utilizzo difficili, prolungando significativamente la durata dei componenti in grafite e sopprimendo la migrazione delle impurità nella grafite, garantendo la qualità diepitassialeEcrescita dei cristalli.

Figura 1. Componenti comuni rivestiti in carburo di tantalio

La deposizione chimica in fase vapore (CVD) è il metodo più maturo e ottimale per produrre rivestimenti TaC su superfici di grafite.

Utilizzando TaCl5 e propilene rispettivamente come fonti di carbonio e tantalio e argon come gas di trasporto, il vapore TaCl5 vaporizzato ad alta temperatura viene introdotto nella camera di reazione. Alla temperatura e alla pressione target, il vapore del materiale precursore viene adsorbito sulla superficie della grafite, subendo una serie di reazioni chimiche complesse come la decomposizione e la combinazione di fonti di carbonio e tantalio, nonché una serie di reazioni superficiali come la diffusione e il desorbimento di sottoprodotti del precursore. Infine, sulla superficie della grafite si forma uno spesso strato protettivo, che protegge la grafite dall'esistenza stabile in condizioni ambientali estreme e amplia significativamente gli scenari applicativi dei materiali di grafite.

Figura 2.Principio del processo di deposizione chimica in fase vapore (CVD).

Semiconduttore VeTekfornisce principalmente prodotti in carburo di tantalio: anello guida TaC, anello a tre petali rivestito TaC, crogiolo con rivestimento TaC, grafite porosa con rivestimento TaC ampiamente utilizzata nel processo di crescita dei cristalli SiC; grafite porosa con rivestimento TaC, anello guida rivestito TaC, supporto wafer in grafite rivestito TaC, Suscettore con rivestimento TaC, suscettore planetario, suscettore satellitare rivestito con TaC e questi prodotti di rivestimento in carburo di tantalio sono ampiamente utilizzati inProcesso epitassia SiCEProcesso di crescita del cristallo singolo SiC.

Figura 3.VeterinarioI prodotti di rivestimento al carburo di tantalio più popolari di ek Semiconductor